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叔丁基二甲基氯硅烷脱保护

2024-07-03 化工产品网

叔丁基二甲基氯硅烷(TBDMS-Cl)是一种常用的保护基化合物,可以用于保护含有羟基或羧基的化合物。但是在化合物的后续合成过程中,保护基需要被去除,以便于反应的进行。

脱保护是一种常用的化学反应,可以去除化合物中的保护基。对于TBDMS-Cl的脱保护,通常使用四氢呋喃和甲基三丙基氧基硅烷(MTBS)作为反应溶剂和还原剂。

在反应中,TBDMS-Cl和化合物在四氢呋喃中反应生成TBDMS-O-Tf(Tf为三氟甲磺酰基)保护基。然后加入MTBS作为还原剂,可以将TBDMS-O-Tf还原为羟基或羧基,同时生成TBDMS-OMe(Me为甲基)和MTBS-O-Tf。

最后,通过过滤和洗涤的步骤,可以得到去除了TBDMS保护基的化合物产物。这种脱保护的反应具有高效、选择性和可控性等优点,可以在有机合成中得到广泛应用。


关键词: 环氧鳞片防腐涂料 三羟甲基丙烷油酸酯 作者: 化工网
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